Datum/Zeit
Date(s) — 28. Januar 2020
17:00 – 19:00
Veranstaltungsort
Abbe Center of Photonics
Thema
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Seit Mai 2018 findet das traditionelle JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium als JENAer Optikkolloquium am Abbe Center of Photonics auf dem Beutenberg Campus Jena statt. Es ist offen für alle Interessierten aus Forschung, Wirtschaft und Bildung und versteht sich als Forum für neue Technologien rund um die Photonik.
VORTRAG
Kohärenztomografie mit extrem ultravioletter Strahlung – Zerstörungsfreie Querschnittsbildgebung mit nano-skaliger Auflösung
Dr. Silvio Fuchs » Friedrich-Schiller-Universität Jena, Helmholtz-Institut Jena
Zum Thema › Mikroskopie im sogenannten extremen ultravioletten Spektralbereich (XUV) erreicht dank der kurzen Wellenlänge Auflösungen im Nanometerbereich. Zudem kann ein einzigartiger elementspezifischer Absorptionskontrast genutzt werden, da die Strahlung mit den Innerschalenelektronen der Probenmaterialien wechselwirkt. Aufgrund der hohen Absorption ist es jedoch technisch sehr herausfordernd, Objektive mit großer numerischer Apertur im XUV-Bereich herzustellen. Es müssen also Wege gefunden werden, wie man trotz kleiner verfügbarer numerischer Apertur dennoch eine hohe Auflösung erreichen kann.
Im Vortrag wird ein im XUV-Bereich neuartiges, dreidimensionales Abbildungsverfahren vorgestellt, dessen axiale (in die Tiefe) Auflösung nicht von der Fokussierung, sondern von den spektralen Eigenschaften der Strahlungsquelle abhängt. Dazu wurde die im optischen Bereich bekannte und heutzutage in der Augenheilkunde weit verbreitete Methode der optischen Kohärenztomographie (OCT) in den XUV-Bereich übertragen und weiterentwickelt. Die XCT genannte Methode erreicht axiale Auflösungen von wenigen Nanometern und ist in der Lage, zerstörungsfreie Querschnittsbilder, beispielsweise von integrierten Halbleiterstrukturen in Silizium, abzubilden. Auch können zusätzlich zur Struktur quantitative Informationen aus den Messungen gewonnen werden, die eine Materialidentifikation ermöglichen. Als XUV-Strahlungsquelle werden hohe Harmonische von ultrakurzen infraroten Laserpulsen (HHG) eingesetzt. Dies ermöglicht einen laborbasierten Aufbau und damit Unabhängigkeit von typischerweise in der XUV-Mikroskopie verwendeten Synchrotronstrahlungsquellen (Großforschungseinrichtungen). Im Gegensatz zur axialen Auflösung ist die laterale Auflösung des Verfahrens noch durch die fokussierende Optik begrenzt. Dies soll in Zukunft durch eine Kombination von XCT mit linsenfreien Abbildungsverfahren wie der Beugungsbildgebung (CDI bzw. Ptychographie) erreicht werden.
Zum Referent › Dr. Silvio Fuchs studierte und promovierte in Physik an der Friedrich-Schiller-Universität Jena. Er beschäftigte sich zunächst mit der laserbasierten Erzeugung von XUV-Strahlung an relativistisch bewegten Oberflächen und in Gasen. Aufbauend auf diesen Grundlagen wandte er sich dann der Bildgebung mit diesen Strahlungsquellen zu und entwickelte die Methode der Kohärenztomographie im EUV-Bereich (XCT). Momentan arbeitet er als Post-Doc am Helmholtz-Institut Jena und koordiniert ein Forschungsteam, welches verschiedene Bildgebungsmethoden im XUV- aber auch im weichen Röntgenbereich entwickelt, bzw. insofern weiterentwickelt, dass die Methoden zusätzlich um eine Zeitauflösung im Femto- bis hin zum Attosekundenbereich erweitert wird.
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Das JENAer Optikkolloquium wird unterstützt von: Carl Zeiss AG, Ernst-Abbe-Hochschule Jena, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik, Friedrich-Schiller-Universität Jena, JENOPTIK AG, Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. Veranstalter ist OptoNet e.V.
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Anfahrt & Parkmöglichkeiten
Am Beutenberg Campus stehen nur sehr begrenzt Parkflächen zur Verfügung. Bitte nutzen Sie öffentliche Verkehrsmittel. Vom Stadtzentrum fahren die Buslinien 10, 11 und 12 zum Beutenberg Campus.
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HISTORIE
Das JENAer Optikkolloquium geht auf eine Veranstaltungsreihe der Jenaer Zeiss Werke zurück, die 1971 zunächst zur Weiterbildung der Mitarbeiter ins Leben gerufen wurde. Durch die Gewinnung hochkarätiger Referenten entwickelte es sich schnell zu einem wichtigen Diskussionsforum der führenden Optikexperten des Landes.
Nach 1989 wurde das Kolloquium in Zusammenarbeit mit dem Institut für Angewandte Optik der Universität Jena, vertreten durch Prof. Kowarschik, weitergeführt und gewann durch die Beteiligung führender Wissenschaftler und Unternehmen und die Kooperation u.a. mit dem Fraunhofer IOF und dem Leibniz IPHT weiter an Bedeutung.
