Datum/Zeit
Date(s) — 12. November 2019
17:00 – 19:00
Veranstaltungsort
Abbe Center of Photonics
Thema
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Seit Mai 2018 findet das traditionelle JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium als JENAer Optikkolloquium am Abbe Center of Photonics auf dem Beutenberg Campus Jena statt. Es ist offen für alle Interessierten aus Forschung, Wirtschaft und Bildung und versteht sich als Forum für neue Technologien rund um die Photonik.
VORTRAG
Bearbeitung optischer Materialien mit Plasmajets und Ionenstrahlquellen
Prof. Dr. Thomas Arnold » Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung (IOM)
Zum Thema › Die Herstellung präziser optischer Oberflächen mittels nichtkonventioneller Methoden und Prozessketten unter Einsatz von reaktiven Atmosphärendruck-Plasmajets und Ionenstrahlen bietet gegenüber klassischen Verfahren wie Schleifen, Läppen und Polieren bestimmte Vorteile, insbesondere bei der Fertigung von Freiformflächen. Durch die quasi-berührungslose Bearbeitung mit Strahlwerkzeugen unter Ausnutzung atomarer Mechanismen können flexibel und effizient Freiformen erzeugt und Restfehler mit hoher Konvergenz korrigiert werden. In neuartigen Prozessketten kann der mechanische Schleifprozess durch die deterministische Plasmajetbearbeitung ersetzt werden, welche schädigungsfrei arbeitet und aufgrund des chemisch basierten Materialabtrags auch keine oberflächennahen Schäden induziert.
Der Einsatz reaktiver Ionenstrahlen auf Aluminiumoberflächen zur Formbearbeitung und Glättung ist ein weiteres neuartiges Verfahren, bei dem die Präzision diamantgedrehter optischer Oberflächen signifikant erhöht werden kann und somit den Einsatz solcher Spiegeloptiken bis in den UV-Wellenlängenbereich nutzbar macht.
Zum Referent › Prof. Dr. Thomas Arnold studierte Physik an der Universität Leipzig und promovierte dort 2005 zur Plasma-Oberflächen-Wechselwirkung beim Ätzen von Silizium mit einem Ar/SF6/O2-Plasmajet. Seit 2000 ist er als wissenschaftlicher Mitarbeiter am Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung (IOM) in Leipzig angestellt und beschäftigte sich ab 2005 mit Anwendungen der Plasmajet-Technologie in der Oberflächenpräzisionsbearbeitung. Seit 2008 ist er Gruppenleiter am IOM und für den Arbeitsbereich Nichtkonventionelle Ultrapräzisions-Oberflächenbearbeitung zuständig. Er beschäftigt sich mit Grundlagenuntersuchungen zur Wechselwirkung zwischen ionen- und plasmabasierten Werkzeugen und Oberflächen und entwickelt Prozessketten, Werkzeuge und Bearbeitungssysteme zur Ultrapräzisions-Oberflächenformgebung und ‑korrektur mit Ionen und Plasmen. 2014 ist er parallel zur Arbeit am IOM als Stiftungsprofessor für Ultrapräzisionsbearbeitung von Oberflächen mit Ionen und Plasmen an die TU Dresden, Fakultät Maschinenwesen, berufen worden.
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Das JENAer Optikkolloquium wird unterstützt von: Carl Zeiss AG, Ernst-Abbe-Hochschule Jena, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik, Friedrich-Schiller-Universität Jena, JENOPTIK AG, Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. Veranstalter ist OptoNet e.V.
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Anfahrt & Parkmöglichkeiten
Am Beutenberg Campus stehen nur sehr begrenzt Parkflächen zur Verfügung. Bitte nutzen Sie öffentliche Verkehrsmittel. Vom Stadtzentrum fahren die Buslinien 10, 11 und 12 zum Beutenberg Campus.
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HISTORIE
Das JENAer Optikkolloquium geht auf eine Veranstaltungsreihe der Jenaer Zeiss Werke zurück, die 1971 zunächst zur Weiterbildung der Mitarbeiter ins Leben gerufen wurde. Durch die Gewinnung hochkarätiger Referenten entwickelte es sich schnell zu einem wichtigen Diskussionsforum der führenden Optikexperten des Landes.
Nach 1989 wurde das Kolloquium in Zusammenarbeit mit dem Institut für Angewandte Optik der Universität Jena, vertreten durch Prof. Kowarschik, weitergeführt und gewann durch die Beteiligung führender Wissenschaftler und Unternehmen und die Kooperation u.a. mit dem Fraunhofer IOF und dem Leibniz IPHT weiter an Bedeutung.
